摘要 获得对涂膜的物理性、外观、化学性能*均匀的涂膜。◆不同涂料的涂布速度从50-500 mm/秒可调（增量为：10mm/秒）◆可预设4种程序以获得的涂布效果◆从键盘上可调节涂布速度及向前向后移动◆计数器记录开始及停止时间，速度到200 mm/秒时即自停

摘要 激光雕刻烟雾净化器切割亚克力除烟除味机激光切割亚克力时，使用除烟除味净化器搭配静电除尘滤网，可以有效改善工作环境，减少烟雾和异味对健康和设备的危害。选择合适的设备并定期维护，能够确保长期稳定的净化效果。

摘要 浸渍提拉镀膜机 垂直提拉机技术参数提拉行程：0～150mm（可定制行程）提拉速度范围：1～55000μm/s，小分辨率 1μm/s

摘要 德国SPS-POLOS旋涂机SPIN200i为小批量生产而设计POLOS Spin200i 是一种多功能、高质量的基材旋涂机，由 PTFE 或 NPP 制成。

摘要1. 提拉速度范围：1～5000 μm/s，最小分辨率1μm/s；2. 适用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm；3. 浸渍时间：1～1200 s，最小分辨率1s；4. 镀膜次数：1～100次，最少1次...

摘要浸渍提拉镀膜 涂膜提拉机 提拉涂膜机型号：AOD-HTDC-300浸渍提拉镀膜 涂膜提拉机 提拉涂膜机是适用于溶胶-凝胶法（Sol--Gel法，简称SG法）制备薄膜的浸渍提拉法的一款高精度仪器。核心部件采用进口配件，精准控制提拉速度，多次重复镀膜无位置偏差。提拉速度、...

摘要 实验室专用镀膜机

摘要 Leica EM ACE600是的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于分辨率分析。

摘要 蒸镀仪 VDS-600C-120

摘要 主要特点　　这款蒸镀仪是我公司研发的一款微型高真空蒸镀薄膜生长设备，利用高真空下材料分子束缚分离后的动力实现蒸发，可通过蒸发台和基体之间的距离调节实现对分子的筛选，从而制备出高质量的薄膜

摘要 型号：PTPES-3V 腔体有效尺寸：?290*300mm 占地面积：2300*1500*1050mm 总功率：6KW

摘要 型号：PTP-9Va有效空间：900*900mm面积：4700*3100*1800mm电量：10KW

摘要产品简介：本型号匀胶机经过小型化设计，整体采用铝合金结构， PP 腔体，外观美观坚固。仪器采用精密电机，转速能达到8000转/秒；控制依靠按键和高亮液晶屏，除直接 匀胶外还能预存匀胶曲线进行程控匀胶。本仪器在极大的减 小了体积的前提下有效的保障了仪器性能和功能，十分适...

摘要三靶磁控溅射镀膜仪以三靶协同溅射技术为核心，在高真空环境中构建精准可控的等离子体沉积系统。其创新原理在于通过 100～1000Gauss 强力磁场约束电子运动轨迹，使氩气等离子体高效轰击三个独立靶材，释放的离子经电场加速后均匀沉积于基底表面。相较于单靶设备，该技术突破...

摘要三靶磁控溅射镀膜仪以三靶协同溅射技术为核心，在高真空环境中构建精准可控的等离子体沉积系统。其创新原理在于通过 100～1000Gauss 强力磁场约束电子运动轨迹，使氩气等离子体高效轰击三个独立靶材，释放的离子经电场加速后均匀沉积于基底表面。相较于单靶设备，该技术突破...

摘要 所属分类：大气等离子清洗机 大气等离子镀膜机疏水防水效果好，处理时间短，可实现流水线在线式作业。

摘要 所属分类：真空等离子清洗机

摘要 产品简介：HMDS基片预处理系统主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料，为基片在涂胶前改善表面活性，增加光刻胶与基底的粘附力的专用设备，也可用于晶片其它工艺的清洗，尤其在芯片研发和生产领域应用更加普及。

摘要 多工位浸渍提拉镀膜机MFDC-300M浸渍提拉镀膜机简介本产品主要用于溶胶-凝胶法在同一块基板上制备多种不同膜层的薄膜材料

摘要 浸渍提拉镀膜机产品详情玛福尔科技MFDC-300浸渍提拉镀膜机简介MFDC-300浸渍提拉镀膜机是适用于溶胶-凝胶法（Sol--Gel法，简称SG法）制备薄膜的浸渍提拉法的一款高精度仪器

摘要 HMDS真空镀膜机/真空烘箱通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。

摘要EPEE i200等离子体增强化学气相沉积系统主要用于6/8英寸氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃等薄膜沉积工艺，平台式多反应腔架构，兼容Si、SiC、GaAs等不同衬底材料，广泛应用于集成电路、化合物半导体、功率半导体、半导体照明、硅基微型显示、科研等领...

摘要HORIC L200卧式低压化学气相沉积系统，主要用于半导体产线8英寸及以下晶圆淀积SiN、POLY、SiO?等薄膜，设备工艺性能好、产能大、可靠性高，可满足半导体领域的多种产线需求。设备包含净化工作台、炉体机箱、气源柜、真空系统及电气控制系统五大部分，相关模块齐全，...

摘要Esther E320R 8英寸单片减压硅外延系统主要用于体硅外延、埋层外延、选择性外延等多种特色工艺的运行。该设备主要由传输系统模块、工艺腔室模块、压力控制模块等组成。精准的压力、气流场与温场控制，保证了外延片良好的工艺性能，保证成膜质量。传输模块可兼容多种晶圆尺寸...

摘要eVictor PVD Al金属铝薄膜物理气相沉积系统，适用于12英寸集成电路领域，是一款PVD设备。该系统集成高温去气、等离子体预清洗、高温Al、TaN、TTN等多种工艺模块，能在系统内部实现工艺整合，还涉及大平台传输、高温静电卡盘、磁控溅射源设计、厚铝Whiske...

摘要Polaris Series硅通孔物理气相沉积系统主要由大气平台，真空传输平台，去气腔室，预清洁腔室和工艺腔室组成，设备采用Cluster Tool结构，可配置多个工艺腔室、预清洗腔室和去气腔室，适合封装领域TSV粘附层、扩散阻挡层以及种子层薄膜制备大规模生产。Pol...

摘要eVictor Series 8英寸物理气相沉积系统主要用于8英寸晶圆金属薄膜沉积工艺。该机台为多腔室前后双平台结构，可支持10个工艺模块，能够进行全自动工艺处理。系统主要由传输模块、工艺模块、灰区部件、电源柜等组成。其中工艺模块主要用于晶圆表面预处理和薄膜沉积，传输...

摘要 产品描述：HMD S真空 镀膜机 用途概述 HMDS化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），HMDS真空镀膜机又称HMDS基片预处理系统，指需在低真空度下进行的镀膜。喆图HMDS真空镀膜机对箱体内预处理过...

摘要LSMS 160磁控溅射镀膜机 LSMS-160磁控溅射镀膜机是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器，用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜，亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属...

摘要 锇/等离子体镀膜机

摘要 Korvus Technology的Korvus—PVD多腔室互联系统为薄膜沉积工艺更具灵活性、成本效益和高效性提供了创新解决方案。HEX PVD系统的特点在于其多功能性，凭借高度模块化设计能够充分满足制造商与科研人员在薄膜沉积应用中对定制化与灵活性的核心需求。

摘要 中瑞祥高校浸渍提拉镀膜提拉机 位置精度：lt;0.01mm#183; 浸渍时间：1～9999s，小分辨率 1s#183; 镀膜次数：1～9999 次，少 1 次；

摘要ZRX-29319实验室浸渍提拉镀膜机是适用于溶胶-凝胶法（Sol--Gel法，简称SG法）制备薄膜的浸渍提拉法的款精度仪器。核心部件采用口配件，控制提拉速度，多次重复镀膜无位置偏差。提拉速度、提拉度、浸渍时间、循环镀膜次数、下降速度、停留时间均可以通过程序控制。适用...

摘要 产品描述：HMD S真空 镀膜机 用途概述 HMDS化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），HMDS真空镀膜机又称HMDS基片预处理系统，指需在低真空度下进行的镀膜。喆图HMDS真空镀膜机对箱体内预处理过...

摘要※　系列产品参数型号项目DH-8DH-14DH-18DH-26DH-26A真空室尺寸　　　mmΦ800×1100Φ1250×1500Φ1600×1750Φ1600×2250Φ2600×2100多弧靶数量　　　只814182626...

摘要 Nb3Sn薄膜扩散镀膜机

摘要 JP系列磁控溅射镀膜机

摘要 喷金仪：*外形小巧方便移动*触摸屏控制，工艺记忆储存方便镀相同样品*自动化电动挡板，能自动打开关闭，保证镀样时间和保护样品*石英＋不锈钢腔体，方便观察和清洗

摘要 浸渍提拉镀膜机浸渍提拉镀膜机是适用于溶胶-凝胶法（Sol--Gel法，简称SG法）制备薄膜的浸渍提拉法的一款高精度仪器

摘要小型高温蒸镀仪：KT—Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压，电流反馈，样品台旋转，样品高度调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台...

摘要 Leica EM ACE600是的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于分辨率分析。

摘要倍增级磁控镀膜机主要应用于光电倍增管倍增级表面的锑膜镀制。在膜层制备过程中可实现对光电倍增管的倍增级基底进行烘烤除气、离子轰击清洁、膜层沉积和偏电压辅助、膜厚工艺测试等功能，可进行数字化编程、程序控制和动态监测，能够实时显示、记录、统计、计算、保存、输出各种运行数据，...

摘要 该设备用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系沉积。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜，亦可镀铁磁材料。图示镀膜机为双腔室，共用高真空系统；为避免交叉污染，一个腔室可实现电子枪/电阻蒸发镀膜，另一腔室可实现溅射镀膜。

摘要 该设备可沉积单金属、合金、及多种介质膜，多层膜；主要用于Φ150-Φ500轮毂型金属、非金属零件表面沉积各类功能膜（耐磨、防腐、导电膜、绝缘膜等）的研发和小批生产。

摘要磁控溅射镀膜机是应用泛的PVD沉积设备，可用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜，亦可镀铁磁材料。该设备主要用于实验室制备光学膜层，电学，光电膜层及其它功能膜层，以及制备用于生长纳米材料的催化...