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一、透射电子显微技术TEM
1、分析原理:高能电子束穿透试样时发生散射、吸收、干涉和衍射,使得在相平面形成衬度,显示出图象;
2、谱图的表示方法:明场衍衬象、暗场衍衬象、质厚衬度象、晶格条纹象、和分子象;
3、提供的信息:晶体形貌、微孔尺寸分布、分子量分布、晶格与缺陷、多相结构等。
STEM成像不同于平行电子束的TEM,它是利用聚集的电子束在样品上扫描来完成的,与SEM不同之处在于探测器置于试样下方,探测器接收透射电子束流或弹性散射电子束流,放大后在荧光屏上显示出明场像和暗场像。
入射电子束照射试样表面发生弹性散射,一部分电子所损失能量值是样品中某个元素的特征值,由此获得EELS,利用EELS可以对薄试样微区元素组成、化学键及电子结构等进行分析。
二、扫描电子显微技术SEM
1、分析原理:用电子技术检测高能电子束与样品作用时产生二次电子、吸收电子、X射线、背散射电子等并放大成象;
2、谱图的表示方法:背散射象、吸收电流象、二次电子象、元素的线分布和面分布等;
3、提供的信息:断口形貌、薄膜内部的显微结构、表面显微结构、微区元素分析与定量元素分析等。
入射电子与样品中原子的价电子发生非弹性散射作用而损失的那部分能量,激发核外电子脱离原子,能量大于材料逸出功的价电子从样品表面逸出成为真空中的自由电子,此即二次电子。
二次电子扫描成像
入射电子达到离核很近的地方被反射,没有能量损失;
用背反射信号进行形貌分析时,可根据背散射电子像的亮暗程度,判别出相应区域的原子序数的相对大小,由此可对金属及其合金的显微组织进行成分分析。
AFM的扫描模式有接触模式和非接触模式,接触式利用原子之间的排斥力的变化而产生样品表面轮廓;非接触式利用原子之间的吸引力的变化而产生样品表面轮廓。

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